ArF激光光致抗蚀剂的研究进展

• 作者: 余尚先 张改莲 杨凌露
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 化学
• 关键词: ArF激光 光致抗蚀剂 化学增幅 矩阵树脂 光产酸源
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 61-71
• 页数: 11页
• 分类号: O64
• 字数: 5456字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.2003.01.008

摘要

本文对近10年来有关ArF激光(193 nm)光致抗蚀剂的研究开发情况进行了调研,对193 nm光致抗蚀剂组成物的各个组分进行了归纳综述.从本文可以看出,利用193 nm成像技术可以刻画线幅很细(＜0.13 μm)的图像,能适应信息技术的发展对于光致抗蚀剂高分辨率的要求.但若想将193 nm成像技术在实践中推广应用,还有诸多问题需待研究解决.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张改莲	北京师范大学化学系	17	188	8.0	13.0
2	余尚先	北京师范大学化学系	39	145	7.0	9.0
3	杨凌露	北京师范大学化学系	8	77	5.0	8.0