ICP-AES法测定工业硅中10种杂质元素

• 作者: 傅明 杨万彪 胡宇东 袁智能 陈新焕
• 来源期刊: 冶金分析
• 学科: 化学
• 关键词: ICP-AES 工业硅 杂质元素测定
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与试验报告
• 页码范围: 9-11
• 页数: 3页
• 分类号: O657.31
• 字数: 1214字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7571.2003.01.004

摘要

研究了利用ICP发射光谱仪测定工业硅中Fe,Al,Ca,P,Ti,Cu,Zn,Mg,Mn,Ni等10种元素的方法,确定了各元素的检出限,回收率在94%～105%之间,RSD小于3.5%,该方法用于样品测定,结果满意.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁智能		20	374	12.0	19.0
2	陈新焕		39	437	12.0	19.0
3	傅明		21	243	9.0	15.0
4	杨万彪		21	171	7.0	12.0
5	胡宇东		13	195	8.0	13.0