高温超导平面电路光刻工艺

• 作者: 刘娟秀 罗正祥 羊恺
• 来源期刊: 低温与超导
• 学科: 物理学
• 关键词: 高温超导 平面电路 光刻
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 页码范围: 39-41
• 页数: 3页
• 分类号: O52
• 字数: 2152字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-7100.2003.04.010

摘要

在研究了传统光刻工艺的基础上,针对高温超导平面电路自身对工艺的要求,结合高温超导薄膜的特点,提出了几点工艺方法上的改进,解决了传统光刻工艺中存在的几个问题.实验结果表明,这种新的工艺方法不仅增加了高温超导平面电路制备工艺的稳定性,而且提高了样品的可重复性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗正祥	电子科技大学微波中心	74	751	14.0	24.0
2	羊恺	电子科技大学微波中心	65	331	9.0	14.0
3	刘娟秀	电子科技大学微波中心	49	264	8.0	13.0