镍的金属有机化学气相沉积及相关因素的研究

• 作者: 刘世良 彭冬生 谢长生 赵立峰
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金属有机化学气相沉积(MOCVD) 羰基镍 薄膜
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 表面改性
• 页码范围: 66-69
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3091字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-6264.2003.01.015

摘要

研究了以羰基镍为沉积源,利用MOCVD技术沉积镍薄膜;讨论了沉积温度及压力对沉积速率的影响,以及利用SEM、XRD、DSC等分析手段来探讨沉积温度及不同沉积基体对薄膜微观形态的影响.结果表明,沉积温度约为150℃可以得到较快的沉积速率,而且薄膜连续具有金属光泽;以铜为沉积基体所得到的薄膜其微观形态中有明显的晶粒,以玻璃为基体得到的薄膜却含有部分非晶态的组织;沉积速率随着反应室工作压力的增加而下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢长生	华中科技大学材料学院	348	4405	33.0	51.0
2	彭冬生	华中科技大学材料学院	3	15	3.0	3.0
3	赵立峰	华中科技大学材料学院	4	20	3.0	4.0
4	刘世良	华中科技大学材料学院	2	11	2.0	2.0