MOCVD生长的动力学模式探讨

• 作者: 廖常俊 王浩 范广涵
• 来源期刊: 华南师范大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 化学反应动力学 金属有机化合物气相沉积(MOCVD) 晶体生长
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 页码范围: 54-57
• 页数: 4页
• 分类号: TN312.8|TN209
• 字数: 2199字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5463.2003.02.011

摘要

讨论金属有机化合物气相沉积(MOCVD)方式生长晶体的一种动力学解释.应用分子动力学、化学反应动力学等推导出MOCVD反应过程中晶体生长速度-原材料输运速度有关的公式,并应用这个公式进行了计算,计算结果与实际生长时的参数接近.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范广涵	华南师范大学信息光电子学学院	147	1064	16.0	26.0
2	廖常俊	华南师范大学信息光电子学学院	92	843	15.0	23.0
3	王浩	华南师范大学信息光电子学学院	14	108	5.0	10.0