半导体光催化氧化技术的研究进展

• 作者: 刘冬妮 郑铭 陈健波
• 来源期刊: 江苏大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体 光催化 光催化剂 光催化反应器
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 页码范围: 40-44
• 页数: 5页
• 分类号: TQ034
• 字数: 4639字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7775.2003.03.011

摘要

作为一种高级氧化工艺,半导体光催化氧化技术能有效降解多种对环境有害的污染物,使污染物矿化为CO2、H2O及其他无机小分子物质.在诸多半导体光催化剂中,TiO2由于无毒、催化活性高、氧化能力强、稳定性好、成本低,成为最常用、也是最具潜力的一种光催化剂.阐述了TiO2光催化氧化的反应机理,介绍了决定TiO2光催化性能的因素及提高其活性的方法,总结了光催化反应器的发展及影响光催化反应效率的因素,并展望了半导体光催化氧化技术的前景,指出了今后的研究方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑铭	江苏大学生物与环境工程学院	12	65	5.0	7.0
2	陈健波	江苏大学生物与环境工程学院	3	15	2.0	3.0
3	刘冬妮	江苏大学生物与环境工程学院	2	3	1.0	1.0