用亚稳态氩原子束制作纳米结构

• 作者: 姚汉民 李展 石建平 陈元培 陈旭南 陈献忠 高洪涛
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 亚稳态原子 纳米结构制作 光驻波淬火
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 微纳技术
• 页码范围: 6-10
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2163字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2003.01.002

摘要

纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分,原子光刻技术是纳米图形制作的一项新方法.对直流高压放电产生的亚稳态氩原子束进行准直减小其发散角,亚稳态原子在与之传播方向垂直的激光驻波场中发生淬火并沉积在基底上,破坏吸附在基底表面的SAM膜(self_assembled monolayers),结合刻蚀技术可制作出纳米量级的图形.给出该技术制作纳米图形的基本原理、方案、相关理论及模拟结果.