低氰脉冲光亮镀金工艺研究

• 作者: 梁英 王新权 黄高山
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 低氰 脉冲 光亮镀金工艺
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 电镀
• 页码范围: 41-43
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.18
• 字数: 3005字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2003.03.013

摘要

开发出一种低氰脉冲光亮镀金工艺.研究了工艺条件对其镀层性能的影响.本工艺具有施镀电流密度范围宽、镀液稳定可靠以及镀层性能优越等特点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王新权		3	7	1.0	2.0
2	黄高山		8	78	5.0	8.0
3	梁英		3	34	3.0	3.0