P(VDF-TFE-HFP)/PTFE双层膜的驻极体行为

• 作者: 吴越华 夏钟福 王飞鹏 邱勋林
• 来源期刊: 仪器仪表学报
• 学科: 工学
• 关键词: 驻极体 P(VDF-TFE-HFP) 双层膜 压电性
• 年，卷（期）: 2003,（z2）
• 所属期刊栏目: 测量装置
• 页码范围: 179-180
• 页数: 2页
• 分类号: TM2
• 字数: 1410字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-3087.2003.z2.082

摘要

通过在Teflon PTFE薄膜上经流延一层P(VDF-TFE-HFP)(简称F2,4,6)薄膜,形成了具有非均匀机械和电学性质的P(VDF-TFE-HFP)/PTFE压电双层膜.本文以栅控恒压电晕充电、等温表面电位衰减测量、压电d33系数等温衰减等方法研究了这种新型双层功能膜的压电性质.结果证明这种双层膜的压电活性及压电性的热稳定性均明显优于久负盛名的传统铁电聚合物PVDF.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏钟福	同济大学波耳固体物理研究所	79	508	12.0	19.0
2	邱勋林	同济大学波耳固体物理研究所	23	139	6.0	10.0
3	王飞鹏	同济大学波耳固体物理研究所	24	75	5.0	6.0
4	吴越华	同济大学波耳固体物理研究所	10	43	4.0	6.0