同步辐射光刻用的极紫外光源

• 作者: 傅恩生
• 来源期刊: 激光与光电子学进展
• 学科: 工学
• 关键词: 同步辐射 光刻 自由电子激光器
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 光刻技术
• 页码范围: 20-27
• 页数: 8页
• 分类号: TN3|TN24
• 字数: 5439字
• 语种: 中文

摘要

讨论以极紫外(EUV,此处分别指13.5rm或11.3nm)为基础的下一代光刻用同步辐射作为光源的可能性.要求是:50W,2%带宽和这一带宽外功率最小.研究了三种选择,第一、二种用弯铁和波荡器辐射.结果证明牛津仪器公司和其他公司的早期工作:当发射过多的带外辐射时,光源带内功率不足.第三种是用500MeV直线加速器驱动的带有超导微型波荡器的自由电子激光器(FEL).这种装置能产生带内极紫外功率超过50W,带外功率可忽略.