氟化物溶液腐蚀后硅表面形态的STM与XPS研究

• 作者: LI S F Y 叶建辉 吴孙桃 李静
• 来源期刊: 厦门大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: Si(111)表面 腐蚀 STM XPS
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 591-595
• 页数: 5页
• 分类号: TN304|TN301.1
• 字数: 2276字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0438-0479.2003.05.013

摘要

利用扫描隧道显微技术(STM)和X-射线光电子能谱(XPS)技术,研究了Si (111)在几种不同比例的NH4F-HCl溶液中被腐蚀后的表面形态及洁净度.通过分析表面的STM图像与XPS谱图,表明在较高pH值的NH4F-HCl溶液中被腐蚀的Si (111)表面粗糙度较小,且表面洁净度及化学稳定性较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴孙桃	厦门大学萨本栋微机电研究中心	31	484	11.0	21.0