电子莫尔条纹干涉法及其在微观形变测量中的应用

• 作者: NorioShinya SatoshiKishimoto XieHuimin 依汉威 刘大洲
• 来源期刊: 光学精密机械
• 学科: 工学
• 关键词: 电子莫尔条纹干涉 模拟光栅 电子束成像法 微观形变测量 光刻法 蠕变 电子仪器组件 颗粒界面
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 页码范围: 5-11
• 页数: 7页
• 分类号: TH744.3

摘要

本文针对电子莫尔条纹干涉方法，提出了用单一及双金属涂层方法来制备模拟光栅。对电子莫尔条纹干涉法的测量原则及制备模拟光栅的技术详细作了说明。讨论了利用该法进行应力测量的精度。在不同的基质片上，制备了频率高达5000线／毫米的单一涂层及双涂层的光栅。从实验结果来看，单一金属涂层和双金属涂层光栅都表明了其耐热性。利用所制备的光栅和复制的模拟光栅，将电子莫尔条纹方法应用于测量聚酰亚胺脂基质片孔洞周围应力的形变，电子设备外壳组件的热应力以及纯铜样品颗粒界面周围的拉伸蠕变。