超精密环行抛光技术

• 作者: 曹冲 杨李茗 王岚
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 工学
• 关键词: 精密环行抛光 光学元件 加工效率 质量控制 工艺参数
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 页码范围: 211
• 页数: 1页
• 分类号: TG580.692

摘要

在大口径超精密平面光学元件加工中，环抛是一种重要的抛光技术，作为古典抛光的一种改进工艺，它在光学加工中得到了广泛的应用。但是它目前还存在着一些问题：对操作者的经验依赖太强，加工效率不高，加工质量也不稳定。根本原因是人们对抛光磨削的规律还认识不够，尤其是—些工艺参数的影响。