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摘要:
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工业纯铁等离子体注入与氮化工艺及其性能研究
工业纯铁
等离子体浸没离子注入
脉冲宽度
摩擦磨损性能
耐腐蚀性
高压气体注入缓解等离子体破裂实验研究
等离子体
破裂缓解
涡流驱动
快速充气阀
利用等离子体注入枣树接穗的诱变技术初探
等离子
注入剂量
接穗
样品前处理
成活率
等离子体注入枣树接穗的诱变试验
等离子
注入
诱变
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 等离子体离子注入制备SOI圆片
来源期刊 科学技术研究成果公报 学科 工学
关键词 SOI圆片 等离子体离子注入 制备 硅基半导体材料
年,卷(期) kxjsyjcggb,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 17
页数 1页 分类号 TN304.12
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2003(0)
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研究主题发展历程
节点文献
SOI圆片
等离子体离子注入
制备
硅基半导体材料
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
科学技术研究成果公报
双月刊
1002-7076
11-2323/N
北京市朝阳区安定门外小关街53号
出版文献量(篇)
362
总下载数(次)
0
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