回转对称非球面光学零件磁流变成形抛光的驻留时间算法

• 作者: 尤伟伟 彭小强 戴一帆 李圣怡
• 来源期刊: 国防科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 驻留时间 计算机控制表面成形 非球面
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 机电工程·应用数学
• 页码范围: 89-92
• 页数: 4页
• 分类号: TH161
• 字数: 2099字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2486.2004.03.019

摘要

介绍了一种基于代数算法的回转对称非球面计算机控制表面成形的驻留时间算法.该算法将驻留时间转化为工件自转的整数圈数,并且将抛光模对工件的材料去除效率体现到材料去除矩阵上进行计算.利用非负最小二乘法求解驻留时间向量.最后,利用该算法在自研的磁流变抛光实验装置上对一回转对称光学零件进行3次迭代加工,使其面形精度从8μm提高到0.5μm以内.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆	国防科技大学机电工程与自动化学院	109	1657	23.0	33.0
2	李圣怡	国防科技大学机电工程与自动化学院	186	3101	27.0	44.0
3	彭小强	国防科技大学机电工程与自动化学院	34	661	15.0	25.0
4	尤伟伟	国防科技大学机电工程与自动化学院	4	128	4.0	4.0