扫描喷射电沉积纳米晶铜的试验研究

• 作者: 刘志东 田宗军 赵剑峰 赵阳培 黄因慧
• 来源期刊: 电加工与模具
• 关键词: 喷射电沉积 沉积速度 纳米晶铜
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 设计·研究
• 页码范围: 26-29
• 页数: 4页
• 字数: 2463字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-279X.2004.05.009

摘要

对扫描喷射电沉积纳米晶铜的工艺特点和沉积层微观结构进行了研究.结果表明,扫描喷射电沉积的电流密度和沉积速度随电压的增大呈线性增大,可用电流密度和沉积速度远高于传统电沉积.电流密度、喷射流量和扫描速度都对沉积层的表面生长形态有较大的影响,使用低电流密度、高喷射流量和快扫描速度有利于获得平整、致密的沉积层,在较大的电流密度范围内可获得晶粒尺寸小于40 nm的铜沉积层.电流密度由100 A/dm2增至300 A/dm2时,择优取向晶面由(220)晶面逐渐转变为(111)晶面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田宗军	南京航空航天大学机电工程学院	220	2027	21.0	32.0
2	黄因慧	南京航空航天大学机电工程学院	219	2593	26.0	36.0
3	赵剑峰	南京航空航天大学机电工程学院	78	1175	20.0	30.0
4	刘志东	南京航空航天大学机电工程学院	229	1912	22.0	29.0
5	赵阳培	南京航空航天大学机电工程学院	9	228	9.0	9.0