氯离子对酸性镀铜电沉积的影响

• 作者: 刘烈炜 卢波兰 吴曲勇 杨志强
• 来源期刊: 电镀与环保
• 学科: 工学
• 关键词: 氯离子 酸性镀铜 旋转圆盘电极 交流阻抗 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 电镀
• 页码范围: 7-9
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153
• 字数: 2421字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-4742.2004.05.003

摘要

旋转圆盘电极动电位扫描(RRDE)、交流阻抗(EIS)、原子力显微镜(AFM)等方法研究氯离子与添加剂AQ对酸性镀铜电沉积过程的影响,从沉积机理的角度解释氯离子必不可少的原因.结果表明,加入的氯离子改变了吸附络合物的放电形式,表现在氯离子通过离子桥机理形成三维网状结构的[Cl…AQCu(I)…Cl]放电以阻碍整个放电过程,增加反应电阻,从而使镀层表现出很好的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘烈炜	华中科技大学化学系	36	434	14.0	19.0
2	吴曲勇	华中科技大学化学系	5	91	5.0	5.0
3	卢波兰	华中科技大学化学系	5	91	5.0	5.0
4	杨志强		10	163	8.0	10.0