镍表面三维微图形的复制加工

• 作者: 刘品宽 刘柱方 孙立宁 张力 汤儆 田中群 田昭武 蒋利民
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 化学
• 关键词: 约束刻蚀剂层技术 镍 三维微加工 化学刻蚀 电化学
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 研究快讯
• 页码范围: 249-253
• 页数: 5页
• 分类号: O646
• 字数: 2993字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3471.2004.03.001

摘要

运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工, 以规整的三维齿状微结构作模板, 获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表征刻蚀图案,证实CELT可用于金属表面Ni的三维微图形刻蚀加工.