DY-2001A型纳米级电子束曝光机中静电偏转器的设计

• 作者: 刘珠明 李艳秋 顾文琪
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 静电偏转器 二阶有限元 优化 像差
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 23-27,46
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2866字
• 语种: 中文

摘要

基于纳米曝光要求和JSM-35CF型扫描电镜,设计了一组上下偏转器长度不一致的静电偏转器,使偏转灵敏度大大提高.采用二阶有限元法计算了八极静电偏转器的轴上场分布.高精度的场分布有利于高级像差.为了使系统的总体像差最小,结合具体电子光学系统,用最小二乘法对偏转器的激励强度、转角及其在系统中的位置进行优化,得到直至五级分量的像差.动态校正后,偏转场为80μm×80μm时,束斑分辨率约为3.2 am;偏转场大小为1 mm×1 mm时,束斑分辨率约为29.8 nm.结果表明,应用该组静电偏转器的电子光学系统的分辨率满足纳米曝光的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李艳秋	中国科学院电工研究所	35	388	12.0	18.0
2	顾文琪	中国科学院电工研究所	53	189	8.0	11.0