高能电子束曝光技术研究

• 作者: 彭开武 田丰 靳鹏云 韩立 顾文琪
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束曝光 高能 透射电镜 改造 纳米加工
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 7-10
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 2378字
• 语种: 中文

摘要

介绍了将商用透射电镜JEM-2000EX改造为高能电子束曝光系统的研制工作,在现阶段研制工作的基础上进行了曝光实验.结果表明,利用此高能电子束曝光系统可以制备出纳米线条,并且能够制备出具有高深宽比的微细结构,从而为微小器件的加工提供了新的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩立	中国科学院电工研究所微纳加工实验室	98	376	9.0	13.0
2	靳鹏云	中国科学院电工研究所微纳加工实验室	15	21	2.0	3.0
3	田丰	中国科学院电工研究所微纳加工实验室	49	422	10.0	20.0
4	顾文琪	中国科学院电工研究所微纳加工实验室	53	189	8.0	11.0
5	彭开武	中国科学院电工研究所微纳加工实验室	3	3	1.0	1.0