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磁性薄膜自发磁化强度的变分累计展开分析
磁性薄膜自发磁化强度的变分累计展开分析
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摘要：
利用变分累计展开方法,分析了Heisenberg磁性薄膜的自发磁化强度到三级累积展开.结果表明:自发磁化强度依赖于薄膜的层数.在某一临界厚度以下,自发磁化强度随薄膜原子层数的减小而迅速减小,其结果与实验数据接近.
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文献信息
| 篇名 | 磁性薄膜自发磁化强度的变分累计展开分析 | ||
| 来源期刊 | 渝西学院学报：自然科学版 | 学科 | 物理学 |
| 关键词 | Heisenberg薄膜 自发磁化强度 变分累计展开 | ||
| 年，卷（期） | 2004,（4） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 18-20 | |
| 页数 | 3页 | 分类号 | O484.5 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
五维指标
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2004(0)
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研究主题发展历程
节点文献
Heisenberg薄膜
自发磁化强度
变分累计展开
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
重庆文理学院学报：自然科学版
主办单位：
重庆文理学院
出版周期：
双月刊
ISSN：
1673-8012
CN：
50-1183/N
开本：
出版地：
重庆市永川区红河大道319号
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
1769
总下载数（次）
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