氨络合物体系电积镍的机理研究

• 作者: 张九渊 张昭 曹华珍 郑利峰 郑国渠
• 来源期刊: 有色金属
• 学科: 工学
• 关键词: 有色金属冶金 镍 电积 氨络合物 电化学阻抗谱 反应机理
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 提取冶金与化学
• 页码范围: 45-48
• 页数: 4页
• 分类号: TF815|TF803.27|TF111.311
• 字数: 2651字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-1744.2004.03.014

摘要

采用电化学阻抗谱技术研究不锈钢电极上氨络合物体系电积镍的阻抗行为.结果表明,氨络合物体系电积镍阻抗谱有3个时间常数,即高频区双电层电容和电化学反应电阻引起的容抗弧,中频区中间吸附产物NiOHads弛豫过程引起的感抗弧,低频区吸附氢原子对镍电结晶阻滞作用引起的容抗弧.探讨NiOHads吸附覆盖度与电化学阻抗谱的关系,提出电极反应机理和等效电路模型.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑国渠	浙江工业大学材料科学与工程研究所	67	444	12.0	17.0
2	张昭	浙江大学化学系	83	1476	23.0	35.0
3	张九渊	浙江工业大学材料科学与工程研究所	31	587	12.0	24.0
4	曹华珍	浙江工业大学材料科学与工程研究所	53	347	10.0	16.0
5	郑利峰	浙江工业大学材料科学与工程研究所	7	67	5.0	7.0