火焰水解法制备硅基二氧化硅材料的析晶研究

• 作者: 夏君磊 安俊明 李健 李建光 王红杰 胡雄伟 郜定山
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 火焰水解 二氧化硅 析晶 二氧化锗 三氧化二硼
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 496-498
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 1257字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2004.06.024

摘要

用火焰水解法在硅基片上制备了掺杂GeO2和B2O2的SiO2光波导材料.用X射线物相衍射法(XRD)分析了掺杂和烧结工艺对材料的析晶现象的影响.结果表明,当烧结时采取自然降温,GeO2-SiO2材料由于严重析晶而完全碎裂;而当烧结后期采取快速降温,析晶过程受到很大抑制,但仍有析晶.在此GeO2-SiO2材料中掺入适量的B2O3后,得到了完全非晶态的GeO2-B2O3-SiO2材料,但B2O3掺入量过多时,又会导致析晶.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏君磊	中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心	11	27	3.0	4.0
2	安俊明	中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心	45	77	5.0	6.0
3	李建光	中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心	22	67	5.0	6.0
4	王红杰	中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心	32	93	6.0	7.0
5	李健	中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心	92	1070	17.0	31.0
6	郜定山	中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心	13	42	4.0	6.0