表面活性剂对Ni-Si3N4复合镀层的影响

• 作者: 于爱兵 田欣利 韩廷水
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 表面活性剂 复合电镀 镍-氮化硅
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 2043字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2004.06.008

摘要

通过分析3种典型表面活性剂对Si3N4微粒在镀液中悬浮性的影响,研究各表面活性剂对Ni-Si3N4复合层中微粒含量、沉积速率和镀层硬度的影响及作用机理.结果表明,阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵可提高复合镀层中Si3N4微粒含量和镀层硬度,有利于Ni-Si3N4的沉积;非离子表面活性剂甲酰胺对Ni-Si3N4镀层的影响不显著.选择适当的阴离子表面活性剂和阳离子活性剂的混和比例,可以获得较好的Ni-Si3N4镀层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于爱兵	天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室	69	843	17.0	23.0
2	田欣利	装甲兵工程学院材料系	136	999	17.0	24.0
3	韩廷水	天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室	3	49	3.0	3.0