真实体系光电离截面共振结构的理论研究

• 作者: 孙卫国 程延松 马晓光
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 精确光电离截面 共振结构 密度效应
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 页码范围: 475-476,482
• 页数: 3页
• 分类号: O562.4
• 字数: 1727字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0364.2004.03.022

摘要

利用我们提出的普遍适用的精确光电离截面公式和介电影响函数研究了原子光电离共振结构受粒子数密度影响的效应.结果表明用新的光电离截面公式可以直接处理宏观环境对截面的影响,明显地优于孤立原子光电离截面公式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙卫国	四川大学原子与分子物理研究所	92	400	11.0	16.0
2	马晓光	四川大学原子与分子物理研究所	3	1	1.0	1.0
3	程延松	四川大学原子与分子物理研究所	3	1	1.0	1.0