油基磁流变液的开发及抛光性能研究

• 作者: 冯之敬 王英伟 程灏波
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 非球面 粗糙度 光学精加工
• 年，卷（期）: 2004,（10）
• 所属期刊栏目: 先进光学加工技术
• 页码范围: 28-31
• 页数: 4页
• 分类号: TQ171.684
• 字数: 2809字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2004.10.008

摘要

磁流变抛光技术可用于具有超光滑要求光学元件的超精密制造.在明确磁流变抛光机理的基础上,开发了油基磁流变抛光液,其体积比配方是:33.84%的羰基铁,57.34%的硅油,6%的氧化铈,2.82%的稳定剂.抛光液初始粘度达到0.5Pa·s,流变性具有较大范围的稳定性能.实验中,利用磁流变液在外磁场作用下形成的强剪切应力对一平面K9玻璃进行了可控抛光,结果证明其具有良好的抛光特性,抛光23分钟后工件表面粗糙度降低到0.6739nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程灏波	清华大学精密仪器与机械学系	24	309	11.0	17.0
2	冯之敬	清华大学精密仪器与机械学系	50	543	14.0	21.0
3	王英伟	长春理工大学材料化工学院	26	291	11.0	16.0