氢等离子体气氛中退火多孔硅的表面和光荧光特性

• 作者: 何国荣 刘宝林 蔡加法 谢生 陈丽荣 陈松岩 黄美纯
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 多孔硅(PS) 热退火 紫光发射 蓝光发射 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 77-80
• 页数: 5页
• 分类号: O482.31
• 字数: 2883字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2004.01.016

摘要

用电化学腐蚀法制备了多孔硅(PS),在氢等离子体气氛中不同温度下对多孔硅样品进行了退火处理,并进行了光致发光(PL)谱和原子力显微镜(AFM)表面形貌的测量.不同退火温度给PS表面形态带来较大变化,也影响了其PL谱特性.在退火的样品中观察到的PL谱高效蓝光和紫光谱带,我们认为主要源于量子限制发光峰和非平衡载流子被带隙中浅杂质能级所俘获而引起的辐射复合所产生的.在420～450℃退火处理的多孔硅的PL谱上观察到了一个未见诸于报道的紫光新谱带(3.24eV,382 nm),其发光机理有待于进一步研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蔡加法	厦门大学物理系	27	107	6.0	8.0
2	陈松岩	厦门大学物理系	68	248	8.0	12.0
3	刘宝林	厦门大学物理系	30	167	9.0	11.0
4	黄美纯	厦门大学物理系	35	129	7.0	8.0
5	谢生	厦门大学物理系	9	62	6.0	7.0
6	何国荣	厦门大学物理系	11	74	6.0	8.0
7	陈丽荣	厦门大学物理系	1	3	1.0	1.0