聚合物微透镜阵列制作及单片集成应用研究

• 作者: 周宏 易新建 柯才军 赖建军
• 来源期刊: 华中科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 聚合物 微透镜 反应离子刻蚀
• 年，卷（期）: 2004,（10）
• 页码范围: 13-15
• 页数: 3页
• 分类号: TN386.5
• 字数: 2754字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4512.2004.10.005

摘要

以聚酰亚胺和聚二甲基硅氧烷两类材料为例,研究了聚合物微透镜阵列的制备工艺以及与CCD图像传感器芯片的单片集成工艺,阐述了光学聚合物用于单片集成应具有的材料性能,对热熔产生的光刻胶微透镜阵列进行反应离子刻蚀得到了这两种聚合物材料微透镜阵列.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	易新建	华中科技大学光电子工程系	102	1261	21.0	29.0
2	赖建军	华中科技大学光电子工程系	30	317	10.0	16.0
3	周宏	华中科技大学光电子工程系	12	128	7.0	11.0
4	柯才军	华中科技大学光电子工程系	7	71	4.0	7.0