电子束曝光机的偏转系统

• 作者: 刘珠明 顾文琪
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 偏转器 优化设计 动态校正 电子束曝光机
• 年，卷（期）: 2004,（12）
• 所属期刊栏目: 微纳技术
• 页码范围: 12-16
• 页数: 5页
• 分类号: TN305
• 字数: 4495字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2004.12.004

摘要

电子束曝光机的偏转系统控制电子束偏转扫描.像差低、偏转灵敏度高、扫描速度快是它的基本要求.对各种偏转器、偏转方式进行分析、比较,从偏转器空间场的数值计算方法、偏转系统的优化、像差校正、偏转器制作工艺、电气参数等方面阐述设计过程和工程实现上一些值得注意的问题.综合考虑偏转器和偏放电路的设计可以得到最优性能的系统.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾文琪	中国科学院电工研究所	53	189	8.0	11.0
2	刘珠明	中国科学院电工研究所	6	4	1.0	2.0