CoFeV薄膜材料界面结构的中子反射实验

• 作者: 李新喜 陈波 黄朝强
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜材料 界面结构 反射技术 中子束 实验 材料表面 性能参数 界面粗糙度
• 年，卷（期）: zggcwlyjykjnb_2004,（1）
• 页码范围: 397-398
• 页数: 2页
• 分类号: TB383

摘要

CoFeV磁性合金是新近发展的一种极化超镜涂层材料，用于中子的白旋极化具有良好的性能。由于CoFeV薄膜的界面和层结构状况直接影响到超镜的极化效率和中子传输能力以及中子束的品质，因此，研究CoFeV薄膜材料表面和界面的微观结构特性有着重要的实际意义。应用极化中子反射技术可以获取CoFeV薄膜材料表面与界面粗糙度、膜层厚度等结构参数以及极化中子反射率等性能参数。