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CCL中铜屑产生原因的分析和处理
CCL中铜屑产生原因的分析和处理
作者:
黎志勇
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
刷辊
铜屑
摩擦
间隙
摘要:
通过分析CCL中铜屑产生的原因,阐明了CCL中铜屑的预防和发生铜屑的处理.
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文献信息
篇名
CCL中铜屑产生原因的分析和处理
来源期刊
印制电路信息
学科
工学
关键词
刷辊
铜屑
摩擦
间隙
年,卷(期)
2005,(9)
所属期刊栏目
铜箔与基材
研究方向
页码范围
31-32
页数
2页
分类号
TS8
字数
1219字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1009-0096.2005.09.011
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
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1
黎志勇
1
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2005(0)
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引证文献(0)
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研究主题发展历程
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刷辊
铜屑
摩擦
间隙
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
印制电路信息
主办单位:
印制电路行业协会
出版周期:
月刊
ISSN:
1009-0096
CN:
31-1791/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市闽行区都会路2338号95号楼CPCA大厦2楼
邮发代号:
创刊时间:
1993
语种:
chi
出版文献量(篇)
5458
总下载数(次)
19
总被引数(次)
10164
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