石刻保护有机硅涂料的研究

• 作者: 周艺峰 聂王焰
• 来源期刊: 涂料工业
• 学科: 工学
• 关键词: 石刻 有机硅涂料 保护 甲基三乙氧基硅烷 正硅酸乙酯
• 年，卷（期）: 2005,（8）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 16-18
• 页数: 3页
• 分类号: TQ630.6
• 字数: 2533字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-4312.2005.08.005

摘要

以正硅酸乙酯和甲基三乙氧基硅烷为主要原料,在酸催化下,在醇溶液中经水解缩聚制备出石刻保护有机硅涂料.讨论了单体配比、用水量、溶剂、催化剂、反应温度和时间对涂料性能的影响,得出最佳的反应条件,并对产品的性能进行了测试.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	聂王焰	安徽大学化学化工学院	58	441	13.0	19.0
2	周艺峰	安徽大学化学化工学院	63	453	13.0	19.0