氢键桥联双核铜配合物磁耦合的密度泛函研究

刘成卜; 孙友敏; 王若曦

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氢键桥联双核铜配合物磁耦合的密度泛函研究

氢键桥联双核铜配合物磁耦合的密度泛函研究

作者：

刘成卜孙友敏王若曦

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对称性破损方法

密度泛函理论

氢键桥联铜二聚体

磁-结构关联

摘要：

在密度泛函理论的基础上, 应用对称性破损方法研究了氢键桥联双核铜模型配合物的磁耦合行为以及磁耦合常数随O-O距离的变化趋势. 计算结果表明, 反铁磁耦合作用来源于Cu原子的dx2-y2和氧原子的px或py磁轨道的部分重叠, 而H原子不参与磁耦合作用. 磁耦合常数J与O-O距离r之间存在指数关系, 而不是线性关系.

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篇名	氢键桥联双核铜配合物磁耦合的密度泛函研究
来源期刊	高等学校化学学报	学科	化学
关键词	对称性破损方法密度泛函理论氢键桥联铜二聚体磁-结构关联
年，卷（期）	2005,（2）	所属期刊栏目
研究方向		页码范围	294-298
页数	5页	分类号	O641
字数	4190字	语种	中文
DOI	10.3321/j.issn:0251-0790.2005.02.017

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘成卜	山东大学理论化学研究所	73	311	10.0	14.0
2	孙友敏	山东大学理论化学研究所	2	1	1.0	1.0
3	王若曦	山东大学理论化学研究所	8	29	3.0	5.0