二硫化铁光电薄膜的制备技术的研究现状

• 作者: 程树英 郑明学 钟南保 黄赐昌
• 来源期刊: 漳州师范学院学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 二硫化铁薄膜 制备方法 光电性能
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 页码范围: 77-80
• 页数: 4页
• 分类号: TK511
• 字数: 3609字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-7826.2005.03.016

摘要

黄铁矿结构的二硫化铁(FeS2)是一种具有合适的禁带宽度(Eg≈0.95eV)和较高光吸收系数(当λ≤700nm时,α=5×105cm-1)的半导体材料,而且其组成元素在地球上储量丰富、无毒,有很好的环境相容性.因此,FeS2薄膜在光电子以及太阳能电池材料等方面有潜在的应用前景,受到人们的广泛关注.本文从不同制备方法所制备出的二硫化铁薄膜的研究结果,分析二硫化铁薄膜的研究现状.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程树英	福州大学电子科学与应用物理系	96	443	11.0	17.0
2	钟南保	福州大学电子科学与应用物理系	9	37	3.0	6.0
3	黄赐昌	福州大学电子科学与应用物理系	8	46	4.0	6.0
4	郑明学	福州大学电子科学与应用物理系	9	54	3.0	7.0