X射线掩模电子束制备图形过程中的数值研究

• 作者: 余建祖 王永坤
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模 电子束书写 温度分布 图形制备 有限元分析
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 20-23,50
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2448字
• 语种: 中文

摘要

得到移动光源照射下平板温度分布的理论解,验证了有限元方法的正确性.建立了X射线掩模电子束制备图形过程中传热的三维有限元模型,给出了掩模瞬态温度变化规律.结果表明,辐射是X射线掩模在图形制备中必须考虑的重要因素之一,当不考虑辐射时,掩模瞬时最高温度随时间振荡升高,最高温度为35.20℃;当考虑辐射时,掩模瞬时最高温度随时间周期变化,最高温度为26.95℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王永坤		10	33	4.0	5.0
2	余建祖		61	336	10.0	16.0