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西安交通大学学报期刊
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电子束直写模版电沉积制备图案化磁记录介质
电子束直写模版电沉积制备图案化磁记录介质
作者:
丁玉成
叶向东
李涤尘
钞书哲
原文服务方:
西安交通大学学报
图案化磁记录介质
电子束直写光刻
电沉积
不均匀
摘要:
以电子束直写光刻图形为模版,采用直流电沉积和数值模拟的方法,研究了镍纳米柱阵列图案化磁记录介质的制备工艺和模版电沉积过程中的沉积不均匀问题.研究结果表明,在加速电压、曝光电流确定的条件下,电子束直写光刻模版孔径由曝光时间决定,模版的孔径和孔距在10 nm量级精确可调.在纳米孔阵列模版中进行电沉积时,适当增大孔距,降低阴极电解电势,可以减小电沉积过程中相邻孔之间的相互干扰,提高电沉积的均匀性,从而为图案化磁记录介质的电沉积制备提供了一种新的方法.
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文献信息
篇名
电子束直写模版电沉积制备图案化磁记录介质
来源期刊
西安交通大学学报
学科
关键词
图案化磁记录介质
电子束直写光刻
电沉积
不均匀
年,卷(期)
2009,(3)
所属期刊栏目
专题研究
研究方向
页码范围
27-30
页数
4页
分类号
TB383
字数
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-987X.2009.03.006
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李涤尘
西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室
322
3761
29.0
47.0
2
丁玉成
西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室
128
1941
23.0
39.0
3
钞书哲
西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室
1
2
1.0
1.0
4
叶向东
西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室
1
2
1.0
1.0
传播情况
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引证文献(1)
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研究主题发展历程
节点文献
图案化磁记录介质
电子束直写光刻
电沉积
不均匀
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
西安交通大学学报
主办单位:
西安交通大学
出版周期:
月刊
ISSN:
0253-987X
CN:
61-1069/T
开本:
大16开
出版地:
邮发代号:
创刊时间:
1960-01-01
语种:
chi
出版文献量(篇)
7020
总下载数(次)
0
总被引数(次)
81310
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
期刊文献
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