电子束光刻“自主可控”EDA软件HNU-EBL

• 作者: 姚文泽 徐宏成 赵浩杰 刘薇 侯程阳 陈艺勤 段辉高 刘杰
• 来源期刊: 湖南大学学报（自然科学版）
• 关键词: 电子束光刻 计算光刻 Monte Carlo方法 邻近效应校正 EDA软件
• 年，卷（期）: 2022,（10）
• 所属期刊栏目: 电气与信息工程
• 页码范围: 183-191
• 页数: 8页
• 分类号: TP319
• 语种: 中文
• DOI: 10.16339/j.cnki.hdxbzkb.2022239

摘要

为模拟和优化电子束光刻（Electron Beam Lithography，EBL）工艺过程，提高电子束光刻版图加工质量，依托湖南大学（Hunan University，HNU）开发了一套电子束光刻的“自主可控”国产电子设计自动化（Electronic Design Automation，EDA）软件HNU-EBL.该软件实现了以下主要功能：1）基于 Monte Carlo 方法计算电子束在光刻胶和衬底中的散射过程与运动轨迹；2）基于多高斯加指数函数模型计算拟合出电子束散射的点扩散函数；3）基于 GDSII光刻版图文件矩阵化，进行邻近效应、雾效应等校正计算，优化电子束曝光剂量；4）基于卷积计算，计算出给定曝光剂量下的能量沉积密度，并计算出边缘放置误差等光刻加工质量关键指标 .基于该软件，通过异或门（Exclusive OR，XOR）集成电路的光刻版图算例，计算在聚甲基丙烯酸甲酯（Polymethyl Methacrylate，PMMA）光刻胶和硅衬底中 10 kV 电子束的光刻工艺过程 .通过对比电子束邻近效应校正前后的显影版图，验证了该软件的有效性 .在完全相同的计算硬件和算例条件下，与主流同类进口EDA软件进行了对比，证实了在同等精度下，本软件具有更高的计算效率.已建立http：//www.ebeam.com.cn网站，将HNU-EBL软件免费授权给EBL用户使用.