电刷镀Cu/Ni纳米多层膜镀液的研究

• 作者: 杨红军 谭俊 郭文才
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米多层膜 电刷镀 镀液
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 27-30
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.441
• 字数: 2583字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2005.04.007

摘要

应用扫描电子显微镜(SEM)对电刷镀Cu、Ni薄膜表面形貌进行了观察,并对膜层进行了能谱(EDS)成分分析.结果表明:改变镀液配比和沉积电压,镀层的成分和沉积速率都有明显的变化;在适当的镀液配比下,控制沉积电位,可以分别刷镀出Cu镀层和Ni镀层;控制沉积时间,可以实现纳米多层膜的制备;镀层的生长方式以沿晶外延生长为主,当沉积电压增高时,还伴随有新的晶核的形成和取向择优生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谭俊		16	106	5.0	10.0
2	杨红军	装甲兵工程学院装备再制造工程系	5	44	5.0	5.0
3	郭文才	装甲兵工程学院装备再制造工程系	5	44	5.0	5.0