CaF2助剂放电等离子烧结透明AlN陶瓷的微观结构和光学性能

• 作者: 傅正义 熊焰 王皓
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 放电等离子烧结 透明AlN陶瓷 透过率 微观结构
• 年，卷（期）: 2005,（11）
• 页码范围: 1705-1709
• 页数: 5页
• 分类号: TQ133
• 字数: 2580字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2005.11.010

摘要

采用放电等离子烧结技术,添加质量分数为3%的CaF2作为烧结助剂,制备了透明氮化铝(AlN)陶瓷.样品在烧结温度1 800℃,30 MPa压力下保温15 min,达到了99.5%的相对密度和52.7%的最大透过率.SEM、XRD、TEM和EDX结果表明,烧结体具有很高的致密度、纯度,良好的晶粒形貌和微观晶体结构,晶界和三角晶界处观察不到第二相的存在.CaF2的添加引入液相烧结,促进AlN晶粒的生长和烧结体的致密化,并且与AlN颗粒反应生成的氟化物和Ca-Al-O化合物能够从烧结体中逸出,进一步净化烧结体,是制备透明AlN陶瓷的有效助剂.放电等离子烧结技术具有烧结快速、烧结体致密度高的特点,是制备透明AlN陶瓷的有效方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅正义	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	144	1583	22.0	32.0
2	王皓	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	77	674	15.0	21.0
3	熊焰	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	17	327	10.0	17.0