微机电系统中薄膜结构在静电力和Casimir力作用下的稳定性

• 作者: 冯谦 王晨华 郭万林
• 来源期刊: 南京航空航天大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: Casimir效应 薄膜稳定性 静电驱动 多晶硅 微机电系统
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 页码范围: 208-211
• 页数: 4页
• 分类号: TH11|TH7
• 字数: 1953字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-2615.2005.02.016

摘要

研究了静电驱动的微机械薄膜的稳定性问题.当微机械构件之间的间距在亚微米尺度以下,构件会受到量子效应的影响,如Casimir效应.通过对薄膜在静电力及Casimir力共同作用下的行为进行分析,由数值计算得到了决定薄膜稳定性状态的无量纲参数K及K曲线的临界值KC,若K值大于KC,薄膜结构为不稳定,会引起塌陷失效,薄膜粘附在基底上,且不可恢复.KC值大小与微机械薄膜和基底表面的距离以及外加电压相关.由此提供了设计高长厚比(L/h)的静电驱动薄膜结构的方法,使其不产生失稳塌陷的失效.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭万林	南京航空航天大学航空宇航学院	93	1177	19.0	28.0
2	冯谦	南京航空航天大学航空宇航学院	6	88	4.0	6.0
3	王晨华	南京航空航天大学航空宇航学院	1	7	1.0	1.0