镁合金微弧氧化过程中不同电压下获得膜层的性能研究

• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 镁合金 电压 性能 阻抗
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 267-270
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.2
• 字数: 2738字
• 语种: 中文

摘要

采用扫描电镜、电化学阻抗方法,研究了镁合金AZ91D微弧氧化过程中不同电压下获得氧化膜的性能.结果表明,随着氧化电压的升高,可以获得三种不同性能的氧化膜:钝化膜、微火花氧化膜和弧光氧化膜.钝化膜很薄,厚度不足1μm,膜层的阻抗随着氧化电压升高略有增加,仍属于钝化膜性质;微火花放电后期得到的膜层较厚,厚度可达30 μm,表面均匀、结构致密,具有最高的阻抗,可以达到8×107Ω;弧光放电阶段氧化膜最厚,但结构疏松、易碎,阻抗逐渐降低至1×107Ω.结果还指出,硅酸盐体系中微火花放电阶段后期形成的膜层具有最佳的性能;而且膜层的阻抗主要由氧化膜的有效厚度决定,与总厚度关系不大.