SiOx包装阻隔薄膜的发展现状及其制备方法

• 作者: 张广秋 葛袁静 陈强 韩尔立
• 来源期刊: 包装工程
• 学科: 工学
• 关键词: SiOx薄膜 阻隔性 物理气相沉积 等离子体化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 材料与辅料
• 页码范围: 76-78
• 页数: 3页
• 分类号: TQ320.72+1|TB487
• 字数: 2754字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3563.2005.06.026

摘要

SiOx阻隔薄膜具有优异的阻隔性,并且光透过性和微波透过性好,在阻隔包装领域的应用前景广泛,介绍了SiOx包装阻隔薄膜的制备方法:物理气相沉积,等离子体聚合及大气下等离子体聚合等.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩尔立		4	37	4.0	4.0
2	陈强		125	542	10.0	17.0
3	葛袁静		27	150	8.0	10.0
4	张广秋		32	119	6.0	9.0