双轨道装置同时推上颌第一、第二磨牙向远中的临床研究

• 作者: 冷军 段银钟 王宁 郑虹
• 来源期刊: 临床口腔医学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 口腔正畸 双轨道装置 安氏Ⅱ类错(牙合) 远移磨牙
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 94-96
• 页数: 3页
• 分类号: R783.5
• 字数: 2599字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-1634.2005.02.011

摘要

目的:观察双轨道装置(Greenfield molar distalization,GMD)在临床上同时推上颌第一、第二磨牙向远中的疗效.方法:通过口内测量、模型测量和X线头影测量方法进行分析.结果:平均5个月可获得所需的牙间隙,其中上颌第一磨牙平均远移4.5 mm,第二磨牙平均远移3.5 mm.能较好地控制磨牙的颊舌向摆动、旋转、远中倾斜以及垂直方向的升高和压低,且支抗丧失较少.结论:GMD技术能同时快速有效地推上颌第一、第二磨牙整体向远中移动.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	段银钟	第四军医大学口腔医院正畸科	275	2072	21.0	26.0
2	郑虹	第四军医大学口腔医院正畸科	5	26	3.0	5.0
3	冷军	第四军医大学口腔医院正畸科	6	38	3.0	6.0
4	王宁	西安市电力中心医院口腔科	1	3	1.0	1.0