铝基APCVD沉积SiOx膜层的光学性能研究

• 作者: 张际亮 徐亚伯 沃银花 甘正浩 郦剑
• 来源期刊: 浙江大学学报（工学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 常压化学气相沉积(APCVD) 铝基SiOx膜层 显微结构 光学性能
• 年，卷（期）: 2005,（8）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 1243-1246
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|TN304.12
• 字数: 2347字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3785/j.issn.1008-973X.2005.08.031

摘要

采用低温常压化学气相沉积(APCVD)的方法在铝基底上制备硅氧化物陶瓷膜层.采用XPS、XRD、HRTEM、UV-VAS和NIRS等技术分析膜层的成分、结构组织和形貌特征,并测试了膜层的光学吸收性能.研究结果表明,SiOx中的硅氧原子比为1∶1.60～1∶1.75,硅氧化物陶瓷膜层大部分为非晶态组织,包含少量局部有序区域.SiOx陶瓷膜层沉积在铝基上后具有很高的紫外-可见光吸收率和较高的近红外光吸收率,产生机制是硅氧化物陶瓷膜层中氧空位存在局域电子态,电子吸收能量产生能级跃迁.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐亚伯	浙江大学物理学系	13	38	4.0	6.0
2	郦剑	浙江大学材料科学与工程学系	81	743	15.0	23.0
3	沃银花	浙江大学材料科学与工程学系	21	155	8.0	11.0
4	张际亮	浙江大学材料科学与工程学系	5	19	3.0	4.0