锗掺杂二氧化硅膜的紫外光致折变

• 作者: 张乐天 张玉书 李爱武 王健 郑伟 郑杰 钱颖
• 来源期刊: 吉林大学学报（工学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 材料失效与保护 锗硅 火焰水解法 KrF激光 折射率
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 页码范围: 547-550
• 页数: 4页
• 分类号: TN2
• 字数: 1753字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-5497.2005.05.018

摘要

研究了用火焰水解法制备的掺锗二氧化硅膜在KrF紫外激光下曝光后的结构和光学性质的变化.经过10 min的照射后,在1550 nm处的折射率变化大约为3.41×10-3.采用原子力显微镜分析了曝光过程及膜的表面形貌.结果表明:随着曝光时间的延长,膜的致密性增加,表面粗糙度下降,折射率增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑伟	吉林大学集成光电子学国家重点实验室	37	290	10.0	15.0
2	钱颖	吉林大学集成光电子学国家重点实验室	3	15	3.0	3.0
3	郑杰	吉林大学集成光电子学国家重点实验室	14	31	3.0	5.0
4	李爱武	吉林大学集成光电子学国家重点实验室	13	68	3.0	8.0
5	张乐天	吉林大学集成光电子学国家重点实验室	6	34	3.0	5.0