硅烷CVD法在钢基体表面生成硅扩散涂层

• 作者: 姚奎鸿 李晔 杜平凡 沃银花 王勇
• 来源期刊: 浙江理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅烷 钢基体 硅扩散涂层 气相沉积法
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 机电与信息科技
• 页码范围: 266-268
• 页数: 3页
• 分类号: TB302.2
• 字数: 1997字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-3851.2005.03.011

摘要

采用硅烷(SiH4)直接分解的化学气相沉积技术(CVD),在钢基体表面生成硅扩散涂层.X射线衍射(XRD)分析表明硅扩散涂层的主要成分是铁的硅化物FeSi.用扫描电子显微镜(SEM)对其形貌进行表征,发现涂层颗粒之间相互紧密粘结.金相照片显示,涂层与基体之间没有明显的界面,形成良好的扩散结合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王勇	浙江理工大学材料工程中心	33	187	9.0	12.0
2	沃银花	浙江大学材料与化工学院	21	155	8.0	11.0
3	姚奎鸿	浙江理工大学材料工程中心	47	201	10.0	12.0
4	杜平凡	浙江理工大学材料工程中心	21	77	5.0	8.0
5	李晔	浙江理工大学材料工程中心	9	26	3.0	5.0