应力对非晶超磁致伸缩薄膜形变影响的理论计算

• 作者: 刘吉延 斯永敏
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 超磁致伸缩 非晶薄膜 应力 等效磁场
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 276-278
• 页数: 3页
• 分类号: TM271
• 字数: 2205字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2005.02.032

摘要

分析材料磁化过程中引起磁致伸缩的机理,考虑应力对磁化过程的影响,通过将应力作用等效为磁场,并假设非晶超磁致伸缩薄膜的低场磁化为可逆过程,根据能量最低原理,建立了磁致伸缩薄膜形变与应力之间的关系,给出了表达式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	斯永敏	国防科技大学航天与材料工程学院	28	191	10.0	12.0
2	刘吉延	国防科技大学航天与材料工程学院	6	47	5.0	6.0