阴极溶出伏安法测定痕量硒(Ⅳ)

• 作者: 孙铁彪 王歆睿 田冬梅 臧树良 邓桂春 铁梅
• 来源期刊: 辽宁大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 阴极溶出伏安法 硒(Ⅳ) 汞膜电极
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 页码范围: 289-292
• 页数: 4页
• 分类号: O657.1
• 字数: 2262字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5846.2005.04.001

摘要

采用银基汞膜电极为工作电极,研究了硒(Ⅳ)在0.10 mol/L HClO4与1 mg/L Cu(Ⅱ)离子的电解液中,以硫氰酸根离子为增敏剂的阴极溶出行为,硒浓度在5～30 μg/L范围内与其峰电流呈良好的线性关系,并研究了铁(Ⅲ)、铅(Ⅱ)、锌(Ⅱ)、镉(Ⅱ)、硫(Ⅱ)碲(Ⅳ)等离子对测定硒的干扰问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	臧树良	辽宁大学化学与工程学院	131	1882	22.0	37.0
2	邓桂春	辽宁大学化学与工程学院	61	506	13.0	19.0
3	铁梅	辽宁大学化学与工程学院	52	810	16.0	26.0
5	王歆睿	辽宁大学化学与工程学院	16	83	4.0	8.0
7	田冬梅	辽宁大学化学与工程学院	6	52	4.0	6.0
11	孙铁彪	辽宁大学化学与工程学院	6	146	6.0	6.0