磁流体辅助抛光工件表面粗糙度研究

• 作者: 张峰 张斌智
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流体辅助抛光 磁流变抛光 抛光区 超光滑表面
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 34-39
• 页数: 6页
• 分类号: TH161
• 字数: 2780字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2005.01.007

摘要

给出了磁流体辅助抛光的机理,以及依据Preston方程建立的磁流体辅助抛光的数学模型.并通过实验详细研究了磁流体辅助抛光后工件的抛光区形状,以及抛光区内表面粗糙度情况.最终加工出了表面粗糙度为0.76 nm(rms值)的光学元件,其高频表面粗糙度达到0.471 nm(rms值),满足了对一定短波段光学研究的要求.结果表明:磁流体辅助抛光可以用于对光学元件进行超光滑加工;在磁流体辅助抛光过程中,较大粒度的磁流体抛光液有利于工件表面粗糙度快速降低,较小粒度的磁流体抛光液可以获得更加光滑的光学表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张峰		2	82	2.0	2.0
2	张斌智		1	55	1.0	1.0