含席夫碱结构的表面活性剂与铜(Ⅱ)配合物的稳定性及抗菌性

• 作者: 吕春绪 方海林 蔡春 袁淑军
• 来源期刊: 南京理工大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 表面活性剂 铜配合物 稳定常数 抗菌性
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 页码范围: 598-600
• 页数: 3页
• 分类号: O721
• 字数: 1920字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9830.2005.05.024

摘要

该文以一种自制的含席夫碱结构的表面活性剂为配体与Cu2+离子反应,合成了配合物, 产率为87.6 %;用可见分光光度法测定了该配合物的稳定常数β,在25 ℃ 0.01 mol·L-1硼砂为缓冲溶液时β为1.91×108;用浓度稀释法研究了该配合物的抗菌性.实验结果表明:该表面活性剂具有较强的络合铜离子的能力,并形成稳定的配合物.该铜配合物对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌和白色念珠菌都有一定的抗菌能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕春绪	南京理工大学化工学院	433	4237	30.0	37.0
2	方海林	盐城工学院化工系	15	104	5.0	10.0
3	蔡春	南京理工大学化工学院	119	1153	18.0	27.0
4	袁淑军	南京理工大学化工学院	27	173	7.0	12.0